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Produkt

Lithografiemaschine Mask Aligner Fotoätzmaschine

Kurze Beschreibung:


Produktdetail

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Produkteinführung

Die Belichtungslichtquelle verwendet importierte UV-LEDs und ein Lichtquellenformungsmodul mit geringer Wärmeentwicklung und guter Lichtquellenstabilität.

Die umgekehrte Beleuchtungsstruktur hat eine gute Wärmeableitung und einen nahen Lichtquelleneffekt, und der Austausch und die Wartung der Quecksilberlampe sind einfach und bequem. Ausgestattet mit einem binokularen Doppelfeldmikroskop mit hoher Vergrößerung und einem 21-Zoll-Breitbild-LCD kann es visuell ausgerichtet werden
Okular oder CCD + Display, mit hoher Ausrichtungsgenauigkeit, intuitivem Ablauf und komfortabler Bedienung.

Merkmale

Mit Fragmentverarbeitungsfunktion

Nivellierender Kontaktdruck gewährleistet Wiederholgenauigkeit durch Sensor

Der Ausrichtungsspalt und der Belichtungsspalt können digital eingestellt werden

Mit eingebettetem Computer + Touchscreen-Bedienung, einfach und bequem, schön und großzügig

Platte zum Auf- und Abziehen, einfach und bequem

Unterstützt Vakuumkontaktbelichtung, Hartkontaktbelichtung, Druckkontaktbelichtung und Näherungsbelichtung

Mit Nano-Imprint-Interface-Funktion

Einschichtige Belichtung mit einem Schlüssel, hoher Automatisierungsgrad

Diese Maschine verfügt über eine gute Zuverlässigkeit und eine bequeme Demonstration, besonders geeignet für den Unterricht, die wissenschaftliche Forschung und Fabriken in Hochschulen und Universitäten

Mehr Details

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Spezifikation

1. Belichtungsbereich: 110 mm × 110 mm;
2. ★ Belichtungswellenlänge: 365 nm;
3. Auflösung: ≤ 1 m;
4. Ausrichtungsgenauigkeit: 0,8 m;
5.Der Bewegungsbereich des Scan-Tisches des Ausrichtungssystems muss mindestens folgende Werte aufweisen: Y: 10 mm;
6. Die linken und rechten Lichtröhren des Ausrichtungssystems können sich separat in X-, Y- und Z-Richtung bewegen, X-Richtung: ± 5 mm, Y-Richtung: ± 5 mm und Z-Richtung: ± 5 mm;
7. Maskengröße: 2,5 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 5 Zoll;
8. Stichprobengröße: Fragment, 2", 3", 4";
9. ★ Geeignet für Probendicke: 0,5–6 mm, und kann maximal 20 mm große Probenstücke unterstützen (kundenspezifisch);
10. Belichtungsmodus: Timing (Countdown-Modus);
11. Ungleichmäßigkeit der Beleuchtung: < 2,5 %;
12. Dual-Field-CCD-Ausrichtungsmikroskop: Zoomobjektiv (1-5-fach) + Mikroskopobjektivlinse;
13. Der Bewegungshub der Maske relativ zur Probe muss mindestens folgende Werte erfüllen: X: 5 mm; Y: 5 mm; : 6º;
14. ★ Belichtungsenergiedichte: > 30MW / cm2,
15. ★ Die Ausrichtungsposition und die Belichtungsposition arbeiten in zwei Stationen, und der Servomotor der beiden Stationen schaltet automatisch um;
16. Der nivellierende Kontaktdruck gewährleistet die Wiederholbarkeit durch den Sensor.
17. ★ Der Ausrichtungsabstand und der Belichtungsabstand können digital eingestellt werden;
18. ★ Es verfügt über eine Nano-Imprint-Schnittstelle und eine Proximity-Schnittstelle;
19. ★ Touchscreen-Bedienung;
20. Gesamtmaße: ca. 1400 mm (Länge), 900 mm (Breite), 1500 mm (Höhe).


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